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        每日快播:半導(dǎo)體所硅基外延量子點(diǎn)激光器研究取得進(jìn)展

        時(shí)間:2023-06-27 10:58:00 來(lái)源:電子工程網(wǎng) 發(fā)布者:DN032


        (資料圖)

        來(lái)源: 中科院半導(dǎo)體研究所

        硅基光電子集成芯片以成熟穩(wěn)定的CMOS工藝為基礎(chǔ),將傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)所需的巨量功能器件高密度集成在同一芯片上,提升芯片的信息傳輸和處理能力,可廣泛應(yīng)用于超大數(shù)據(jù)中心、5G/6G、物聯(lián)網(wǎng)、超級(jí)計(jì)算機(jī)、人工智能等新興領(lǐng)域。硅(Si)材料發(fā)光效率低,因此將發(fā)光效率高的III-V族半導(dǎo)體材料如砷化鎵(GaAs)外延在CMOS兼容Si基襯底上,并外延和制備激光器被公認(rèn)為最優(yōu)的片上光源方案。Si與GaAs材料間存在大的晶格失配、極性失配和熱膨脹系數(shù)失配等問(wèn)題,因而在與CMOS兼容的無(wú)偏角Si襯底上研制高性能硅基外延激光器需要解決一系列關(guān)鍵的科學(xué)與技術(shù)難點(diǎn)。

        近期,中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所材料科學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室楊濤與楊曉光研究團(tuán)隊(duì),在硅基外延量子點(diǎn)激光器及其摻雜調(diào)控方面取得重要進(jìn)展。該團(tuán)隊(duì)采用分子束外延技術(shù),在緩沖層總厚度2700nm條件下,將硅基GaAs材料缺陷密度降低至106cm-2量級(jí)。科研人員采用疊層InAs/GaAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)作為有源區(qū),并首次提出和將“p型調(diào)制摻雜+直接Si摻雜”的分域雙摻雜調(diào)控技術(shù)應(yīng)用于有源區(qū),研制出可高溫工作的低功耗片上光源。室溫下,該器件連續(xù)輸出功率超過(guò)70mW,閾值電流比同結(jié)構(gòu)僅p型摻雜激光器降低30%。該器件最高連續(xù)工作溫度超過(guò)115°C,為目前公開(kāi)報(bào)道中與CMOS兼容的無(wú)偏角硅基直接外延激光器的最高值。上述成果為實(shí)現(xiàn)超低功耗、高溫度穩(wěn)定的高密度硅基光電子集成芯片提供了關(guān)鍵方案和核心光源。

        6月1日,相關(guān)研究成果以Significantly enhanced performance of InAs/GaAs quantum dot lasers on Si(001) via spatially separated co-doping為題,發(fā)表在《光學(xué)快報(bào)》(Optics Express)上。國(guó)際半導(dǎo)體行業(yè)雜志Semiconductor Today以專欄形式報(bào)道并推薦了這一成果。研究工作得到國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃和國(guó)家自然科學(xué)基金等的支持。

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